01、真空

真空技術(shù)是基本實驗技術(shù)之一。自從1643年托里拆利做了有關(guān)大氣壓力實驗，發(fā)現(xiàn)了真空現(xiàn)象以后，真空技術(shù)迅速發(fā)展?，F(xiàn)在，真空技術(shù)已經(jīng)成為一門前沿學科。

它的基本內(nèi)容包括:真空物理、真空的獲得、真空的測量和檢漏、真空系統(tǒng)的設(shè)計和計算等。隨著表面科學、空間科學高能粒子加速器、微電子學、薄膜技術(shù)、冶金工業(yè)以及材料學等科技的發(fā)展，真空技術(shù)在近代科學技術(shù)中的地位越來越重要。”

02、不同真空狀態(tài)下真空工藝應(yīng)用

粗真空(100000-lOOOPa)

氣體狀態(tài)與常壓相比只是分子數(shù)量的減少，沒有氣體空間特性的變化，分子間碰撞頻繁，此時的吸附氣體釋放可以不子考慮，氣體運動以粘滯流為主。主要是利用壓力差產(chǎn)生的力未實現(xiàn)真空力學應(yīng)用（真空吸引或運輸固體、液體、膠體等，真空吸盤起重，真空過濾）。

低真空(1000-0.lPa)

氣體分子間，分子與器壁間碰撞不相上下，氣體分子密度較小，氣體釋放也可不考慮，氣體運動以中間流為主。利用氣體分子密度降低可實現(xiàn)無氧化加熱，利用氣壓降低時氣體的熱傳導和對流逐漸消失的原理可以實現(xiàn)真空隔熱及絕緣，利用壓強降低液體沸點也降低的原理實現(xiàn)真空冷凍和真空干燥（黑色金屬真空熔煉脫氣，真空絕緣和真空隔熱，真空冷凍及干燥，高速空氣動力學實驗中的低壓鳳洞）。

高真空(0.1-0.000001Pa)

氣體分子間相互碰撞極少，氣體分子與器壁間碰撞頻繁，氣體運動以分子流為主，此時的氣體釋放是影響真空度及抽氣時間的一個主要原因。利用氣體分子密度低，任何物質(zhì)與氣體殘余分子發(fā)生化學作用微弱的特點進行真空冶金，真空錠膜（超純?nèi)珜?、半導體材料的真空提純及精制，真空錠膜，離子注入、干法刻蝕等表面改性，真空器件的生產(chǎn)：光電管、各種拉子加速器等）。

超高真空(>0.0000001Pa)

氣體分子與器壁的碰撞次數(shù)極少，氣體空間只有固體本身的原子，幾乎沒有別的分子或原子的存在，此時壓強的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應(yīng)用：宇宙空間環(huán)境的模擬，大型同步質(zhì)子加速器的運轉(zhuǎn)。

03、真空鍍膜操作規(guī)程

在真空環(huán)境下，氣體分子平均自由程大、單位面積上分子與固體表面碰撞幾率變小、氣體分子密度低、剩余氣體對沉積膜的摻雜減小。

因此，要想獲得較好品質(zhì)的薄膜就必須有一個比較理想的本底真空。

01、準備工作

1、開啟設(shè)備總電源， 穩(wěn)壓器，確認三相供電電壓正常：370—440V；

2、開啟電容補償器；

3、確認水池冷卻水水量充足（見浮標尺）打開循環(huán)水泵；

4、根據(jù)工藝要求，確定是否需要啟動冷水機以及啟動幾臺冷水機；啟動前應(yīng)確認冷水機入口水壓1.5-3kg，內(nèi)部增壓泵旋轉(zhuǎn)正常，可采用自動或手動方式啟動；

5、 確認各部分冷卻水循環(huán)系統(tǒng)完好，確認擴散泵循環(huán)水工作正常，緊急冷卻系統(tǒng)準備就緒；

6、 確認工藝氣體氣壓不低于2個大氣壓

7、 裝基膜

A、 領(lǐng)膜

B、 裝軸

C、 裝膜

D、 按任務(wù)書車速要求設(shè)置鍍膜速度、張力；

E、 試卷

8、 按生產(chǎn)任務(wù)書要求確認各靶位、布氣系統(tǒng)、電源配置正確，靶材量充足，確認無其他物品遺忘在真空室內(nèi)或小車上，關(guān)閉真空室。

02、抽真空

1 、擴散泵預加熱（約需40分鐘）：啟動維持泵，確認運轉(zhuǎn)正常后，打開維持閥（燈亮） ，逐一打開擴散泵；

2 、低抽：確認真空室門已關(guān)閉啟動計算機，進入鍍膜系統(tǒng)監(jiān)控程序，充氣閥關(guān)閉，啟動機械泵（1、2），確認機械泵正常運行后，開預抽閥，五分鐘后打開復合真空計，打開羅茨

泵開關(guān)，。（當真空達到1500Pa時，羅茨泵允許信號燈（紅燈）亮，再延遲25秒后，羅茨泵自動啟動） ；

3 、高抽：當羅茨泵啟動五分鐘后，打開熱偶真空計，當真空度達到5Pa時，開高閥允許信號燈（紅燈）亮，此時確認擴散泵預熱已完成 （加熱40分鐘或油窗油面達到規(guī)定位置情況下），關(guān)閉預抽閥，依次打開各前級閥，關(guān)維持閥、關(guān)維持泵。依次打開各路高閥，確認到位開關(guān)燈亮，開始高抽。真空度進入10 -2 Pa后，打開電離真空計測量高真空，直到工藝規(guī)定的背景真空，真空進入6×10-3Pa后，打開靶電源總開關(guān)及透過率分析儀預熱，與計算機系統(tǒng)完成通訊連接；

03、鍍膜

1、 確認已達背景真空， 關(guān)閉電離真空計， 打開冷輥、 隔離槽、靶電源、冷卻水，確認工作正常；

2、 打開所需各路供氣電磁閥，抽取殘留雜質(zhì)氣體，確認到達背景真空，按工藝要求設(shè)置各路氣體流量，打開總氣閥、減壓閥、氣體控制器開關(guān)，用中真空計觀察工藝氣體總壓，穩(wěn)定后進行透過率分析儀初始化整定（此時需關(guān)閉真空室照明燈） ；

3、 鍍膜：啟動傳動系統(tǒng)，確認收放卷工作正常，按靶 1—靶 5 依次設(shè)置各靶鍍膜功率， 關(guān)照明燈， 觀察記錄透過率變化情況，開照明燈，觀察鍍膜后剩余反射光、外觀、顏色、質(zhì)量是否符合工藝要求，在穩(wěn)定工作的情況下，做好工藝記錄，不斷巡查設(shè)備運轉(zhuǎn)狀況，合理處置各種隨機問題，鍍膜結(jié)束時，依次關(guān)閉傳動、靶電源，工藝氣體、冷卻水、 （擴散泵水除外），依次關(guān)閉各路高閥，啟動維持泵，開維持閥，依次關(guān)各路前級閥、羅茨泵、機械泵、各真空測量儀，對冷輥升溫，如不繼續(xù)鍍膜，關(guān)閉擴散泵，保持冷卻水，降溫 3 小時后，關(guān)維持閥和維持泵；

04、恢復大氣壓力

確認冷輥高于溫度后，打開充氣閥，充氣完成后，打開真空室門
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