真空鍍膜技術，簡單地來說就是在真空環(huán)境下，利用蒸發(fā)、濺射等方式發(fā)射出膜料粒子，沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上形成鍍膜層。它的主要方法包括以下幾種：


真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱膜料，使其氣化或升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極靶材，使其射出膜料粒子，并沉積到基片上形成膜層。

離子鍍膜
離子鍍膜通常指在鍍膜過程中會產(chǎn)生大量離子的鍍膜方法。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，膜層強度和結合力非常強。



真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用各種鍍膜方法，在成卷的柔性薄膜表面上連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基體的一些特殊功能性、裝飾性屬性。
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